摘要:以四环素为模板分子，以甲基丙烯酸（MAA）为功能单体，让两者以非共价形式键合成复合物。以偶氮二乙丁腈（AIBN）为引发剂，乙二醇二甲基丙烯酸酯（EGDMA）用作交联剂，制备的方法选用沉淀聚合，从而制备出对四环素有高选择性的分子印迹聚合物。通过单因素和正交试验对其制备过程中模板分子与功能单体的比例，模板分子与交联剂的比例，聚合温度等影响四环素分子印迹聚合物的制备条件进行了研究。得到了沉淀聚合制备聚合物的最优条件：模板分子与功能单体（MAA）及交联剂（EDGMA）的比例为1:6:20，聚合温度设定在60 ℃。在此条件下，能制得比较符合要求的四环素分子印迹聚合。
关键词：四环素；分子印迹聚合物；超声萃取；吸附量
目录
摘要
Abstract
1 绪论-1
1.1 分子印迹技术简介-1
1.2 分子印迹技术原理-1
1.2.1 共价印迹法（预组装法）-2
1.2.2 非共价印迹法（自组装法）-2
1.3 分子印迹聚合物的制备-2
1.3.1 分子印迹聚合物的构成-2
1.3.2 印迹聚合物的制备方法-4
1.3.3 聚合物中模板分子的去除-5
1.4 印迹聚合物的表征-5
1.5 分子印迹聚合物的应用-5
1.5.1 用作固相萃取剂-5
1.5.2 用于传感器-5
1.5.3 其他方面应用-6
1.6 四环素分析与检测-6
1.7 研究目的与内容-7
1.7.1 目的与意义-7
1.7.2 研究主要内容-7
2 实验部分-8
2.1 实验试剂与仪器-8
2.1.1试剂-8
2.1.2 主要仪器-8
2.2 标准曲线的绘制-8
2.3 分子印迹聚合物的性能评价-9
2.3.1 红外光谱（FT-IR）-9
2.3.2 结合能力B-9
2.4 四环素分子印迹聚合物的制备-10
2.4.1 制备过程-10
2.4.2 聚合物中四环素的去除-10
2.5 静态吸附最佳时间的选择-10
2.6 制备条件的优化-10
2.6.1 致孔剂的选择-10
2.6.2 单体比例的选择-10
2.6.3 交联剂比例的选择-11
2.6.4 温度的选择-11
2.7 最佳条件的确定-11
3 结果与分析-12
3.1 聚合物中四环素的去除-12
3.2 静态吸附最佳时间的选择-12
3.3 分子印迹聚合物制备条件的优化-13
3.3.1 致孔剂的选择-13
3.3.2 模板分子与单体比例-14
3.3.3 模板分子与交联剂比例-15
3.3.4 制备温度-16
3.4 最佳条件的确定-17
3.5 验证试验-18
3.6 红外光谱图-19
结论-21
致谢-22
参考文献-23
